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ALD技術原理：
ALD技術優勢：
思爾德技術優勢： 采用原子層沉積（ALD）技術，其沉積參數的高度可控性（例如厚度，成分和結構），優異的沉積均勻性和致密性，使得其鍍層的阻水率能達到10-5以上。
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ALD技術原理：
ALD技術優勢：
思爾德技術優勢： 采用原子層沉積（ALD）技術，其沉積參數的高度可控性（例如厚度，成分和結構），優異的沉積均勻性和致密性，使得其鍍層的阻水率能達到10-5以上。
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